На площадке Инжинирингового химико-технологического центра (ИХТЦ) Томского государственного университета (ТГУ) запустили производство особо чистого бромистого водорода и тетракис(диметиламино)титана. Эти два компонента используются в микроэлектронике.
Бромистый водород применяют для очистки поверхности кремниевых пластин, являющихся основой для микросхем. Этот химикат раньше в Россию поставлялся из-за границы, однако канал перекрыли после введения экономических санкций. Ученым ТГУ удалось разработать отечественную технологию с использованием только российских реагентов, что ликвидировало зависимость от зарубежных поставщиков.
Потребовалось некоторое время, чтобы разработку внедрить в практическое производство. Это сделали на площадке малотоннажной химии ИХТЦ. Полученная продукция уже прошла промышленные испытания в российских компаниях, выпускающих элементы для микроэлектроники.
А тетракис(диметиламино)титан или TDMAT используют при создании особенно сложных устройств, требующих тонкого подхода. С помощью этого соединения осаждают пленки нитрида титана из газа. Это необходимо для производства полупроводников, а также применимо в выработке изотопов, композитных материалов и в оптике.
В современном мире микроэлектроника — это не просто отрасль промышленности, а фундамент, без которого невозможен технологический прогресс. К примеру, отечественные микропроцессоры, память, контроллеры — это основа для создания конкурентоспособных компьютеров, серверов, смартфонов, робототехники, медоборудования и других сложных устройств. Внедрение технологий выпуска бромистого водорода и TDMAT электронного качества будет напрямую способствовать появлению качественной российской электроники и ее импортонезависимости.
Первые партии TDMAT отечественного производства также уже отправились предприятиям, выпускающим профильную продукцию.
Ранее мы рассказывали, что в Екатеринбурге началось строительство фабрики микрочипов.
