По сообщениям газеты «Известия», российские разработчики представили проект многолучевого электронного литографа, который теоретически способен сократить время обработки кремниевой пластины примерно в 3000 раз по сравнению с традиционными однолучевыми литографами.
Ключевой элемент российской разработки — мультикатод, который уже изготовили и испытали. В отличие от традиционной схемы с одним электронным лучом, российский мультикатод сразу создает множество параллельных электронных пучков. По словам авторов проекта, это позволяет отказаться от сложной системы расщепления одного луча, уменьшить энергопотребление оборудования и потенциально снизить его стоимость.
Сама концепция многолучевой электронной литографии не является новой. Уже несколько десятилетий исследовательские центры и компании по всему миру работают над такими системами, поскольку главным недостатком классической электронной литографии остается низкая скорость обработки пластин. Использование множества электронных лучей позволяет распараллелить процесс и значительно повысить производительность.
Сейчас проект находится на стадии завершенных научно-исследовательских работ. Полноценный литограф пока не создан — его создание должно начаться в рамках опытно-конструкторских работ. Разработчики рассчитывают изготовить первый опытный образец примерно через три года. В перспективе установку планируют использовать для производства микросхем с различными технологическими нормами — от 350 нм до нескольких нанометров.
При этом даже успешное создание прототипа не означает быстрый выход технологии на рынок. В полупроводниковой отрасли путь от лабораторной разработки до промышленной эксплуатации обычно занимает годы, поскольку оборудование должно пройти масштабную отладку и подтвердить стабильность работы в условиях серийного производства.
Если разработчикам действительно удастся масштабировать технологию и довести ее до промышленного образца, Россия получит собственную платформу для электронно-лучевой литографии. Однако до конкуренции с мировыми лидерами отрасли говорить пока рано: впереди создание полноценного прототипа, его испытания и подтверждение заявленных характеристик в реальных производственных условиях.
Это не первая российская разработка в области литографического оборудования за последнее время. В марте 2026 года ученые Института физики микроструктур РАН представили опытный стенд лазерно-плазменного источника рентгеновского излучения для литографии с длиной волны 11,2 нм. Разработчики заявляли, что использование ксеноновой плазмы вместо традиционных оловянных мишеней позволяет уменьшить износ оптической системы и повысить срок службы оборудования.